Process gases: Argon
Temperature range: Room temperature
The tool for metallization of SEM samples (up to 2").
Deposited thickness is limited by 100 nm due to low deposition rate. Thickness uniformity is poor.
Varastossa 16.1.2014 / Paula. Siirretään ohutkalvolabraan, kun sputtereille on laitettu paikka, muutostyöt käynnissä.
Siirretty Ohutkalvolabraan. 14.4.14